题目：极紫外光刻光源技术与进展
时间：2025年7月2日 13:30-14:30
地点：意大利贵宾会 振华会议室
邀请人：刘应征 教授（叶轮机械研究所）
报告人简介
丁程远，中科院先导A光源专项总师。中科院上海光机所研究员，博导。国家级，中科院百人A类，上海市等人才项目。长期从事极紫外光源的研究，超过15年的极紫外光源的科学研究、产品开发、项目管理、工程实现和客户服务经验。对极紫外光源的产生及在光刻，晶圆检测，生物医学成像中应用感兴趣。
报告摘要
极紫外（EUV）光刻机是量产7nm以下集成电路工艺节点的最关键设备。相对于DUV光刻机，EUV光刻光源是整机中最大的创新点和难点，集西方全产业链的努力，研发20余年，EUV光源才达到量产指标，使半导体行业进入EUV时代。本报告通过EUV光源科学原理到工程实现以及国际与国内历史与现实技术发展的讲解，带听众理解EUV光源发展过程中的真实过程与难点所在。
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